或<100>晶向的p型或n型拋光片或外延片,電阻率大于0.001Ω·cm。 " />
本標準規定了用熱氧化和化學擇優腐蝕技術檢驗拋光片或外延片表面因沾污造成的淺腐蝕坑的檢測方法。
本標準適用于檢測<111>或<100>晶向的p型或n型拋光片或外延片,電阻率大于0.001Ω·cm。
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