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硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GB/T 1557-2018
替代情況:
發(fā)布單位: 國家市場監(jiān)督管理總局 國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 新特能源股份有限公司、有研半導(dǎo)體材料有限公司、亞洲硅業(yè)(青海)有限公司
發(fā)布日期: 2018-09-17
實(shí)施日期: 2019-06-01
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更新日期: 2019年01月02日
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內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用紅外光譜法測定硅單晶晶體中間隙氧含量的方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于室溫電阻率大于0.1 Ω·cm的N型硅單晶和室溫電阻率大于0.5 Ω·cm的P型硅單晶中間隙氧含量的測定。以常溫紅外設(shè)備測試時(shí),氧含量(原子數(shù))測試范圍從1×1016 cm-3到硅中間隙氧的最大固溶度;以低溫紅外設(shè)備測試時(shí),氧含量(原子數(shù))的測試范圍從0.5×1015 cm-3到硅中間隙氧的最大固溶度。

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