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硅片氧沉淀特性的測定-間隙氧含量減少法

標 準 號： GB/T 19444-2004
替代情況：
發(fā)布單位： 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
起草單位： 洛陽單晶硅有限責任公司、中國有色金屬工業(yè)標準計量質(zhì)量研究所
發(fā)布日期： 2004-02-05
實施日期： 2004-07-01
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更新日期： 2020年05月06日
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內(nèi)容摘要

本標準規(guī)定了由測量硅片間隙氧含量的減少量來檢驗硅片氧沉淀特性的方法原理、取樣規(guī)則、熱處理程序、試驗步驟、數(shù)據(jù)計算等內(nèi)容。本標準用于定性比較兩批或多批集成電路用硅片間隙氧沉淀特性。

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